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第三百四十五章 有良心但不多（第4页）

看完智云微电子的情况，徐申学对后续也是有了一些把握。

今年先推出12纳米工艺的芯片，搭载在S16手机上。

明面的S17手机，还有PC产品则是才使用10纳米工艺。

后年的S18手机，则是采用7纳米工艺。

一年一个台阶，持续进步，提升S系列手机的性能，并维持S系列手机的性能优势。

至于大后年的话，估计还是继续使用7纳米工艺……因为智云微电子这边的等效5纳米工艺，至今都还没有什么太好的办法。

现有的HDUV-600浸润式光刻机搞个七纳米就已经到了极限，可搞不了等效五纳米工艺了……这款光刻机，其实用来生产十纳米或十四十二纳米工艺节点才是最适合的。

而等效五纳米的话，如果使用DUV浸润式光刻机来生产，至少得使用八重曝光，对套刻精度的要求是非常高的，套刻精度最少也得一点五纳米。

而正在研发当中，预计要两年后才能够出货的HDUV-700光刻机，其套刻精度也才两纳米而已，根本达不到技术要求。

至于一点五纳米的套刻精度，有这技术直接搞EUV光刻机就完事了，费那劲搞什么DUV浸润式光刻机啊。

毕竟海湾科技里正在研发当中的第一代EUV光刻机，规划的套刻精度也才两纳米；处于项目早期阶段，不知道什么时候才能完善的第二代EUV光刻机才一点五纳米的套刻精度。

一点五纳米的套刻精度，这还早着呢。

这也意味着，等突破等效七纳米工艺之后，可能好几年里智云微电子都无法进一步往下突破工艺了，只能是搞各种七纳米工艺的改进版。

好几年后的事情，徐申学现在着急也没用，反正智云微电子短时间内搞不了五纳米，台积电，四星，英特尔之流也搞不了……大家一起苦逼。

反正徐申学的态度一向来都是如此：要么大家一起苦哈哈的用DUV浸润式光刻机，然后玩四重曝光的七纳米，甚至继续玩八重曝光的等效五纳米。

要么大家一起用更好的EUV光刻机，玩七纳米乃至五纳米。

反正老子用不了EUV光刻机，你们也不能用EUV光刻机。

想要扔下智云，偷偷抢跑……哪有这么美的事！

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智云微电子这边的情况徐申学大概了解，视察了一群后，徐申学又继续展开他的视察之旅，先后去了安城视察威酷电子的生产基地。

随后又前往川城视察了当地的生产基地。

短短一个月里，徐申学的专机在全国各地到处飞，视察着庞大的智云供应链！

这是全球范围里规模最大，用工数量最多，同时也是产值最大的供应链：汇集了超过两百二十个各类型的生产基地，超过一百五十万人在这个供应链上工作。

同时，这也代表着当下华夏，甚至是全球里技术含量最高的智能手机供应链，其中的每一种零配件产品，都是属于当下最顶级的。

从手机SOC、屏幕，电池乃至玻璃，镜头玻璃，摄像头感应器甚至是闪光灯，MAX系列的不锈钢中框机身，后盖玻璃面板，甚至是震动马达，扬声器，麦克风等等……所有的零配件都是代表着当下最顶级的技术。

每一样单独拿出来，那都是世界顶级技术水准。

而众多的世界顶级零配件，最终组合起来的智云S16系列手机，才做到了当下最顶级的智能手机。

它的先进，可不仅仅是体现在手机的跑分上的，更体现在几乎每一个细节上的！

要不然，也无法让全球那么多消费者，心甘情愿的为之买单！