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第三百四十七章 半导体产业会议（第1页）

六月二十六日，徐申学视察了海湾科技，看到了已经处于量产阶段的HDUV-600型光刻机。

当天晚上，海湾科技也在官网上首次公开了新一代DUV浸润式光刻机HDUV-600进入量产的消息。

并公布了该型光刻机已经交付了第一台给智云微电子，将会用于最先进的等效七纳米工艺。

这也是海湾科技首次对外公布该型光刻机的消息，包括一些详细的技术参数。

这个消息也引来了媒体、业内人士甚至普通人的诸多关注。

当天晚上，七点半新闻重点报告了该消息：本台记者消息，我国先进半导体装备企业海湾科技有限公司已经完成了最新一代DUV浸润式光刻机的研发工作。

新型的HDUV-600型光刻机已经达到国际领先水平，填补了我国尖端半导体装备领域的空白，有力促进了我国半导体制造行业的发展。

海湾科技负责人王道林表示，HDUV-600光刻机的各项技术参数已经达到国际领先水平，乃是当下最先进的光刻机，可以用来制造最低七纳米工艺的芯片

一项设备的研发成功，能够做到上七点半新闻报道的程度，那可不容易，很少有设备能够做到这种程度的。

但是光刻机却是可以！

实际上，这不是海湾科技第一次上七点半新闻，实际上之前在HDUV-400光刻机，也就是第一代DUV浸润式光刻机研发成功后，就已经上过七点半新闻了，而当时的报道时长更长，更重视，还伴随着重要人员的视察……

当时电视报道画面，徐申学都只能站在一旁担任解说，为一群来宾介绍海湾科技的HDUV-400型光刻机，陈述该型光刻机的重要历史意义以及现实意义。

现在报道HDUV-600型光刻机的待遇，说实话都差了点……不过好歹也是关键技术突破，所以常规报道还是会有的。

HDUV-600型研发成功并交付量产，这让国内很多人，尤其是一些自诩业内人士都感叹：是我太保守了。

前几年海湾科技搞出来HDUV-400型号光刻机的时候，也引起了一片舆论的狂欢，不少业内人士也积极参与讨论。

当时也有相关的探讨，那就是：

海湾科技的光刻机，什么时候才能够追上ASML的水准。

毕竟当时的HDUV-400光刻机，其性能也就大概和NXT-1950相当。

而NXT1950出现的时候，那已经是2008年的事了，而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米，下探到3228纳米工艺的核心设备。

或者说，正是因为有了这款光刻机，才让3228工艺具备了大规模量产的可行性。

海湾科技可是花了好多年才弄出来了核心性能相当，但是生产效率还差一些的HDUV-400型光刻机……但是，这款光刻机历史意义重大，因为该款光刻机的出现，意味着海湾科技突破了一系列DUV浸润式光刻机的关键技术。

当时，人们所畅想的是，海湾科技继续努力，争取三年一个台阶，在解决28纳米工艺之后，三年内解决可以进行双重曝光，能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。

至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。

但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了DUV浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。

去年推出HDUV-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和NXT1965相当，但是不太成熟。

后来海湾科技推出了升级型号HDUV-500A，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本上和NXT1970持平。