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第325章 威胁系统出奇迹（第3页）

“你早点让我与世间无敌，你也早点回你们系统界交差不行吗？”

“你再不给技能，我就罢工了，让你社死！”

陈诺在心里将系统里里外外吐槽了一遍后，心中低喝了一声。

“系统，签到！”

“叮！签到成功，恭喜宿主获得fi工艺改良技术框架。”

“我去，总算是给了个技能，真特么的不容易！”

陈诺在这个实验室内呆了七天，每天拆完机器就签到，结果连根毛都没有获得。

没想到都要走了，竟然获得了一个，难道威胁真的有用。

“叮！威胁系统，你是第一人，真他娘的是个人才，再威胁、辱骂系统，直接剥离一项技能！”

突如其来的声音让陈诺懵逼了。

自获得系统开始，系统一直都很冷淡，主动回应他的这是第三次，而且还是警告。

得咧，你是大爷，惹不起。

陈诺不再搭理系统，而是接收fi工艺改良技术框架。

十几分钟，他眼中狂喜和震撼。

原本给fi工艺能将精度从28nm推进到14nm，这段时间他不断的研究，有一种新的想法，或许可以从14nm提升到了7nm。

据他猜测7nm是fi工艺的极限了，再想提升只能看euv光刻机。

可没想到这个给的fi工艺改良技术框架最终可以达到5nm，这简直是超乎了他的想象。

若是真达到了5nm工艺，以碳基材料的特性，绝对能吊打2nm的硅基芯片。

从这一点上，国产光刻机已经可以开始崛起了。

但想要完全国产化可能还需要一段路要走，比如高端光源、镜片等。

以国内的自主研发的光刻机使用的光源和镜片，即便加在陈诺的这个fi工艺，7nm是极限了。

饭要一口口吃，路要一步步走，有了现在这个技术，至少三年内在芯片领域不会被卡脖子了。

三年时间足够发生太多的事情，也许三年后他就于世间无敌了。